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基板製造のための方法および装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210525549
申请日
:
2019-10-02
公开(公告)号
:
JP2022507132A
公开(公告)日
:
2022-01-18
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/677
IPC分类号
:
H10B12/00
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
AlN基板およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013008697A1
,2015-02-23
[2]
電気回路基板および同型の基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2018533197A
,2018-11-08
[3]
複合基板およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013002212A1
,2015-02-23
[4]
酸化物基板およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012124506A1
,2014-07-17
[5]
実装基板および実装基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011125874A1
,2013-08-01
[6]
酸化物の直接製造のためのシステムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7644827B2
,2025-03-12
[7]
酸化物の直接製造のためのシステムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2024507068A
,2024-02-16
[8]
多孔質基板構造およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022094280A
,2022-06-24
[9]
TFT基板およびその製造方法並びに有機EL表示装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013190838A1
,2016-02-08
[10]
ガラス基板およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2003080530A1
,2005-07-21
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