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研磨液、分散体、研磨液の製造方法及び研磨方法[ja]

被引：0
申请号：
JP20210524860
申请日：
2020-06-02
公开(公告)号：
JPWO2020246471A1
公开(公告)日：
2021-12-09
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
C09K3/14
IPC分类号：
C09G1/02 H01L21/304
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
研磨液セット、研磨液の製造方法、研磨液、及び、研磨方法[ja] [P]. 
ARAKI MOTOAKI ;
KUZUYA TAKUYA ;
ICHIKAWA YUKI ;
TANAKA TAKAAKI ;
MATSUMOTO TAKAAKI .
日本专利 :JP2025060389A ,2025-04-10
[2]
研磨液セット、研磨液の製造方法、研磨液、及び、研磨方法[ja] [P]. 
ARAKI MOTOAKI ;
KUZUYA TAKUYA ;
ICHIKAWA YUKI ;
TANAKA TAKAAKI ;
MATSUMOTO TAKAAKI .
日本专利 :JP2025072442A ,2025-05-09
[3]
研磨液セット、研磨液の製造方法、研磨液、及び、研磨方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7635875B1 ,2025-02-26
[4]
研磨液、分散体、研磨液的制造方法及研磨方法 [P]. 
井上惠介 ;
小野裕 .
中国专利 :CN113874464A ,2021-12-31
[5]
研磨方法及び研磨液[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019030827A1 ,2020-04-16
[6]
研磨液及び研磨方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2020170331A1 ,2021-12-02
[7]
スラリ、研磨液の製造方法、及び、研磨方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2020021731A1 ,2021-08-05
[8]
スラリ、研磨液の製造方法、及び、研磨方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2020021730A1 ,2021-08-02
[9]
セリウム系研磨材、研磨液、研磨液の製造方法、及びガラス研磨方法[ja] [P]. 
YAMANO HIROSHI ;
MASUDA TOMOYUKI ;
MIYAMA MASATERU .
日本专利 :JP2025027140A ,2025-02-26
[10]
研磨液、研磨液セット及び研磨方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019035161A1 ,2020-04-16
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