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アンダーカットパターン形状を生成するためのネガ型レジスト配合物[ja]
被引:0
申请号
:
JP20190557834
申请日
:
2018-04-23
公开(公告)号
:
JP2020518012A
公开(公告)日
:
2020-06-18
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F7/004
IPC分类号
:
G03F7/038
G03F7/20
G03F7/26
G03F7/40
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
アンダーカットパターン形状を生成するためのネガ型レジスト配合物[ja]
[P].
日本专利
:JP6997801B2
,2022-01-18
[2]
横アンダーソン局在光学素子を作成するためのペレットスタートプロセス[ja]
[P].
日本专利
:JP2022513364A
,2022-02-07
[3]
トリアジンカーバメートを製造するためのプロセス[ja]
[P].
日本专利
:JP2017526708A
,2017-09-14
[4]
カートリッジ、カートリッジを操作するための方法、水ノズルインサートおよびアウトレット[ja]
[P].
日本专利
:JP2021525645A
,2021-09-27
[5]
ソルダーレジストパターンの形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012043201A1
,2014-02-06
[6]
ハンチントン病を処置するためのHTTモジュレータ[ja]
[P].
日本专利
:JP2025160356A
,2025-10-22
[7]
ウレタンアクリレートを作製するためのプロセス[ja]
[P].
日本专利
:JP2019507231A
,2019-03-14
[8]
フッ素アパタイト結晶を生成するための方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2024509356A
,2024-03-01
[9]
レジストパターンコーティング剤およびレジストパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010061833A1
,2012-04-26
[10]
化学増幅型フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン、およびフォトレジストパターン製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2020510237A
,2020-04-02
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