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分光測定システム及び分光測定方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20120243291
申请日
:
2012-11-05
公开(公告)号
:
JP5970340B2
公开(公告)日
:
2016-08-17
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G01N21/27
IPC分类号
:
G01N21/64
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
分光測定器及び分光測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7454183B2
,2024-03-22
[2]
分光測定方法、分光測定装置、及び分光測定プログラム[ja]
[P].
YAMANAKA SHOTA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SEIKO EPSON CORP
SEIKO EPSON CORP
YAMANAKA SHOTA
;
GOMI TSUGIO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SEIKO EPSON CORP
SEIKO EPSON CORP
GOMI TSUGIO
.
日本专利
:JP2024101878A
,2024-07-30
[3]
分光測定装置、及び分光測定方法[ja]
[P].
CHANG KE-BONG
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HITACHI HIGH TECH CORP
HITACHI HIGH TECH CORP
CHANG KE-BONG
;
HIROSE TAKESHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HITACHI HIGH TECH CORP
HITACHI HIGH TECH CORP
HIROSE TAKESHI
.
日本专利
:JP2025098340A
,2025-07-02
[4]
分光測定装置及び分光測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6917824B2
,2021-08-11
[5]
分光測定装置、及び分光測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7782868B2
,2025-12-09
[6]
分光測定装置、及び分光測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016157676A1
,2018-01-25
[7]
分光測定装置、及び分光測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019234842A1
,2021-05-13
[8]
分光測定装置、及び分光測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6679959B2
,2020-04-15
[9]
分光測定装置、及び分光測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6747672B2
,2020-08-26
[10]
分光測定装置及び分光測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5944843B2
,2016-07-05
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