可変エネルギー制御を伴うイオン注入システムおよび方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20160546848

申请日：

2015-03-06

公开(公告)号：

JP2017510023A

公开(公告)日：

2017-04-06

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01J37/317

IPC分类号：

B24B37/10 H01L21/265 H01L21/304

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法律状态信息

共 50 条

[1]

放電加工装置及び加工エネルギー制御方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020031246A1 ,2020-08-20

[2]

レーザ加工システムおよび方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023552942A ,2023-12-20

[3]

エッチング装置およびエッチングシステム[ja] [P].

日本专利 :JP2025508400A ,2025-03-26

[4]

エッチング停止材料の損傷を最小化するための可変エネルギービームを含むレーザーアブレーションシステム[ja] [P].

日本专利 :JP2018500182A ,2018-01-11

[5]

ワイヤ放電加工機を制御するためのシステムおよび方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025526503A ,2025-08-13

[6]

リアルタイム研磨データを取得するためのシステムおよび方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022509136A ,2022-01-20

[7]

生体キャリーオーバーを低減するための誘導加熱システムおよび誘導加熱システムを制御する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020503648A ,2020-01-30

[8]

生体キャリーオーバーを低減するための誘導加熱システムおよび誘導加熱システムを制御する方法[ja] [P].

PATRICK FRITCHIE ;

PATHIK SONI ;

ZHAO LEI ;

DUSTIN HOUSE ;

LYLE YARNELL ;

EDNA PRIETO-BALLENGEE ;

CATHY FORSYTHE ;

MICHAEL SHAWN MURPHY ;

ANDREW FISCHER ;

AKANKSHA SHARMA ;

JOSEPH ESPOSITO ;

MATT EFFINGER ;

MICHAEL FUTER .

日本专利 :JP2023036755A ,2023-03-14

[9]

イオン注入システムにおける抽出電極アッセンブリの電圧変調[ja] [P].

日本专利 :JP2016524277A ,2016-08-12

[10]

加工物の温度を制御するシステム及び方法[ja] [P].

日本专利 :JP6697460B2 ,2020-05-20

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