ケイ素含有膜堆積のための組成物およびそれを用いた方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20210576087

申请日：

2020-06-19

公开(公告)号：

JP2022537057A

公开(公告)日：

2022-08-23

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/318

IPC分类号：

C23C16/42 C23C16/50

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法律状态信息

共 50 条

[1]

ケイ素含有膜の堆積のための組成物及びそれを用いた方法[ja] [P].

日本专利 :JP2019503590A ,2019-02-07

[2]

ケイ素含有膜の堆積のための組成物及びそれを使用した方法[ja] [P].

日本专利 :JP2017535077A ,2017-11-24

[3]

ケイ素含有膜の堆積のための組成物及びそれを使用した方法[ja] [P].

日本专利 :JP2019507956A ,2019-03-22

[4]

炭素ドープケイ素含有膜のための組成物およびそれを用いた方法[ja] [P].

日本专利 :JP2019527483A ,2019-09-26

[5]

ケイ素含有膜形成組成物、およびそれを用いたケイ素含有膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2024544635A ,2024-12-03

[6]

組成物、及びケイ素含有膜の堆積のための組成物を使用する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2021527331A ,2021-10-11

[7]

組成物、及びケイ素含有膜の堆積のための組成物を使用する方法[ja] [P].

ROBERT G RIDGEWAY ;

RAYMOND N VRTIS ;

MADHUKAR B RAO .

日本专利 :JP2022161979A ,2022-10-21

[8]

酸化ケイ素膜の堆積のための組成物及び方法[ja] [P].

日本专利 :JP2019530235A ,2019-10-17

[9]

シラ環状化合物及びそれを用いたケイ素含有膜の堆積方法[ja] [P].

日本专利 :JP6813551B2 ,2021-01-13

[10]

樹脂組成物、それを用いた硬化膜およびその製膜方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025127438A ,2025-09-01

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