ケイ素含有膜の堆積のための組成物及びそれを使用した方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20180544903

申请日：

2017-02-22

公开(公告)号：

JP2019507956A

公开(公告)日：

2019-03-22

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/316

IPC分类号：

C23C16/42 H01L21/318

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法律状态信息

共 50 条

[1]

ケイ素含有膜の堆積のための組成物及びそれを使用した方法[ja] [P].

日本专利 :JP2017535077A ,2017-11-24

[2]

ケイ素含有膜の堆積のための組成物及びそれを用いた方法[ja] [P].

日本专利 :JP2019503590A ,2019-02-07

[3]

組成物、及びケイ素含有膜の堆積のための組成物を使用する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2021527331A ,2021-10-11

[4]

組成物、及びケイ素含有膜の堆積のための組成物を使用する方法[ja] [P].

ROBERT G RIDGEWAY ;

RAYMOND N VRTIS ;

MADHUKAR B RAO .

日本专利 :JP2022161979A ,2022-10-21

[5]

ケイ素含有膜堆積のための組成物およびそれを用いた方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022537057A ,2022-08-23

[6]

酸化ケイ素膜の堆積のための組成物及び方法[ja] [P].

日本专利 :JP2019530235A ,2019-10-17

[7]

炭素ドープケイ素含有膜のための組成物及びそれを使用する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025515832A ,2025-05-20

[8]

炭素ドープケイ素含有膜のための組成物およびそれを用いた方法[ja] [P].

日本专利 :JP2019527483A ,2019-09-26

[9]

ケイ素含有膜の堆積のためのシラシクロアルカンを含む組成物及びその組成物を使用する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022542582A ,2022-10-05

[10]

ケイ素前駆体化合物、ケイ素前駆体化合物を含むケイ素含有膜を形成するための組成物、及びケイ素含有膜を形成するための組成物を使用して膜を形成するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2024527743A ,2024-07-26

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