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マスク保持装置、露光装置、マスク保持方法、及び露光方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20200170451
申请日
:
2020-10-08
公开(公告)号
:
JP6981513B2
公开(公告)日
:
2021-12-15
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F7/20
IPC分类号
:
H01L21/683
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
マスク移動装置、マスク保持装置、露光装置及び基板処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013150898A1
,2015-12-17
[2]
縦枠部、マスク保持装置及びマスク保持方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025179761A
,2025-12-10
[3]
マスク保持装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6485575B2
,2019-03-20
[4]
マスク保持装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6606479B2
,2019-11-13
[5]
マスク保持装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、マスク保持方法、及び露光方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6778402B2
,2020-11-04
[6]
保持装置、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5768793B2
,2015-08-26
[7]
保持装置及び保持方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6653068B2
,2020-02-26
[8]
保持装置及び保持方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6380506B2
,2018-08-29
[9]
マスク搬送装置、マスク保持装置、マスク基板、基板処理装置、及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013145800A1
,2015-12-10
[10]
基板保持装置、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007066758A1
,2009-05-21
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