チタン箔の製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20220525890

申请日：

2022-02-22

公开(公告)号：

JP7100781B1

公开(公告)日：

2022-07-13

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C25D1/04

IPC分类号：

C25C3/28 C25D1/00 C25D3/66

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共 50 条

[1]

チタン箔の製造方法[ja] [P].

KANEKO TAKUMI ;

KUMAMOTO KAZUHIRO ;

NAKAJO YUTA ;

SUZUKI DAISUKE ;

HORIKAWA MATSUHIDE ;

FUJII HIDEKI .

日本专利 :JP2024033569A ,2024-03-13

[2]

金属チタンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020044841A1 ,2021-08-26

[3]

電解鉄箔の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7590616B1 ,2024-11-26

[4]

微細孔を有するチタン又はチタン合金の酸化薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6512257B1 ,2019-05-15

[5]

微細孔を封孔したチタン又はチタン合金の酸化薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6706012B1 ,2020-06-03

[6]

銅箔製造装置[ja] [P].

KO SU JEONG ;

KIM HYE WON ;

KIM DONG WOO .

日本专利 :JP2023184425A ,2023-12-28

[7]

銅箔製造装置[ja] [P].

KO SU JEONG ;

KIM HYE WON ;

KIM DONG WOO .

日本专利 :JP2023184423A ,2023-12-28

[8]

薄膜コンデンサの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007013604A1 ,2009-02-12

[9]

表面処理銅箔およびその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025161968A ,2025-10-24

[10]

整流素子の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6999120B1 ,2022-02-14

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