銅箔製造装置[ja]

被引：0

申请号：

JP20230036058

申请日：

2023-03-08

公开(公告)号：

JP2023184423A

公开(公告)日：

2023-12-28

发明(设计)人：

KO SU JEONG KIM HYE WON KIM DONG WOO

申请人：

SK NEXILIS CO LTD

申请人地址：

IPC主分类号：

C25D1/04

IPC分类号：

代理机构：

代理人：

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法律状态信息

共 50 条

[1]

銅箔製造装置[ja] [P].

KO SU JEONG ;

KIM HYE WON ;

KIM DONG WOO .

日本专利 :JP2023184425A ,2023-12-28

[2]

表面処理銅箔およびその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025161968A ,2025-10-24

[3]

表面処理電解銅箔及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007105635A1 ,2009-07-30

[4]

銅被膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022067280A ,2022-05-06

[5]

チタン箔の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7100781B1 ,2022-07-13

[6]

電解鉄箔の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7590616B1 ,2024-11-26

[7]

チタン箔の製造方法[ja] [P].

KANEKO TAKUMI ;

KUMAMOTO KAZUHIRO ;

NAKAJO YUTA ;

SUZUKI DAISUKE ;

HORIKAWA MATSUHIDE ;

FUJII HIDEKI .

日本专利 :JP2024033569A ,2024-03-13

[8]

銅電解精製の改善[ja] [P].

日本专利 :JP2021523298A ,2021-09-02

[9]

水素製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020105369A1 ,2021-09-27

[10]

フッ素ガス製造装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020085066A1 ,2021-09-16

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