半導体装置の製造方法、及び成膜装置[ja]

被引:0
申请号
JP20110549960
申请日
2011-01-07
公开(公告)号
JPWO2011086971A1
公开(公告)日
2013-05-20
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/285
IPC分类号
C23C16/38 H01L21/3205 H01L21/768 H01L23/532
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[2]
半導体装置の製造方法及び成膜装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6976213B2 ,2021-12-08
[3]
成膜装置及び半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7115688B2 ,2022-08-09
[4]
成膜装置及び半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5634366B2 ,2014-12-03
[5]
半導体装置の製造方法及び成膜装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP7330035B2 ,2023-08-21
[6]
[7]