パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、積層膜及び上層膜形成用組成物[ja]

被引:0
申请号
JP20170554188
申请日
2016-12-01
公开(公告)号
JPWO2017094860A1
公开(公告)日
2018-10-18
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
G03F7/11
IPC分类号
C08F220/22 G03F7/004 G03F7/20
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[7]
上層膜形成組成物及び相分離パターン製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2018051907A1 ,2019-06-24
[8]
膜形成用組成物、積層体、及び積層体の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017217513A1 ,2019-02-28
[9]
膜形成用組成物、及び積層体の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017217474A1 ,2019-02-14
[10]
積層膜の製造方法及び電子デバイスの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019059056A1 ,2020-10-15