学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、積層膜及び上層膜形成用組成物[ja]
被引:0
申请号
:
JP20170554188
申请日
:
2016-12-01
公开(公告)号
:
JPWO2017094860A1
公开(公告)日
:
2018-10-18
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F7/11
IPC分类号
:
C08F220/22
G03F7/004
G03F7/20
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
パターン形成方法、レジストパターン、電子デバイスの製造方法、及び上層膜形成用組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016194613A1
,2018-03-15
[2]
上層膜形成用組成物、パターン形成方法、レジストパターン、及び、電子デバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016157988A1
,2017-08-31
[3]
パターン形成方法、レジストパターン、電子デバイスの製造方法、及び、上層膜形成用組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016158208A1
,2017-07-06
[4]
パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び積層体[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017057288A1
,2018-09-06
[5]
パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び積層体[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017056805A1
,2018-08-16
[6]
保護膜形成用組成物、保護膜形成用組成物の製造方法、パターン形成方法、および、電子デバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017169569A1
,2019-01-17
[7]
上層膜形成組成物及び相分離パターン製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018051907A1
,2019-06-24
[8]
膜形成用組成物、積層体、及び積層体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017217513A1
,2019-02-28
[9]
膜形成用組成物、及び積層体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017217474A1
,2019-02-14
[10]
積層膜の製造方法及び電子デバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019059056A1
,2020-10-15
←
1
2
3
4
5
→