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シーケンシングチップ及びその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20220564684
申请日
:
2020-04-23
公开(公告)号
:
JP2023522757A
公开(公告)日
:
2023-05-31
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C12M1/34
IPC分类号
:
C12M1/00
C12Q1/6869
G01N33/50
G01N37/00
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
シーケンシングチップ及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022519177A
,2022-03-22
[2]
システムオンチップ及びその製造方法[ja]
[P].
NING DAN
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
CHENGDU ANALOG CIRCUIT TECH INC
CHENGDU ANALOG CIRCUIT TECH INC
NING DAN
;
XIANG JIANJUN
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
CHENGDU ANALOG CIRCUIT TECH INC
CHENGDU ANALOG CIRCUIT TECH INC
XIANG JIANJUN
.
日本专利
:JP2024178081A
,2024-12-24
[3]
プラスチックシンチレータおよびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6810941B1
,2021-01-13
[4]
スイッチング素子及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010079829A1
,2012-06-28
[5]
タッチスクリーンセンシングモジュール及びその製造方法と表示装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2015515709A
,2015-05-28
[6]
シリコン酸化物のエッチング方法及びエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7545088B2
,2024-09-04
[7]
シリコン酸化物のエッチング方法及びエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020054476A1
,2020-10-22
[8]
シリコン酸化物のエッチング方法及びエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6700571B1
,2020-05-27
[9]
シリコン酸化物のエッチング方法及びエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7352809B2
,2023-09-29
[10]
ガスセンサチップ、ガスセンシングシステム、およびガスセンサチップの製造方法[ja]
[P].
SASAKO YOSHITAKA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HITACHI LTD
HITACHI LTD
SASAKO YOSHITAKA
;
UCHIYAMA HIROYUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HITACHI LTD
HITACHI LTD
UCHIYAMA HIROYUKI
;
BU YUAN
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HITACHI LTD
HITACHI LTD
BU YUAN
;
NORIMATSU TAKAYASU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HITACHI LTD
HITACHI LTD
NORIMATSU TAKAYASU
.
日本专利
:JP2024071185A
,2024-05-24
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