学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
シリコン酸化物のエッチング方法及びエッチング装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20230147210
申请日
:
2023-09-11
公开(公告)号
:
JP7545088B2
公开(公告)日
:
2024-09-04
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/302
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
シリコン酸化物のエッチング方法及びエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020054476A1
,2020-10-22
[2]
シリコン酸化物のエッチング方法及びエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6700571B1
,2020-05-27
[3]
シリコン酸化物のエッチング方法及びエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7352809B2
,2023-09-29
[4]
シリコン窒化物のエッチング方法及びエッチング装置[ja]
[P].
SUZUKI SHOI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
CENTRAL GLASS CO LTD
CENTRAL GLASS CO LTD
SUZUKI SHOI
;
YAO AKIFUMI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
CENTRAL GLASS CO LTD
CENTRAL GLASS CO LTD
YAO AKIFUMI
.
日本专利
:JP2024152901A
,2024-10-25
[5]
酸化物層のエッチング方法及びエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6742720B2
,2020-08-19
[6]
シリコンエッチング液およびエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009136558A1
,2011-09-08
[7]
シリコンエッチング液およびエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011040484A1
,2013-02-28
[8]
エッチング方法及びエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018020822A1
,2019-05-09
[9]
エッチング方法およびエッチング装置[ja]
[P].
TAKEYA KOJI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
TAKEYA KOJI
;
KANEKI TOSHIKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
KANEKI TOSHIKI
;
KAWAGUCHI TSUBASA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
KAWAGUCHI TSUBASA
.
日本专利
:JP2024044428A
,2024-04-02
[10]
金属酸化物のエッチング方法[ja]
[P].
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
TAKEDA KEIGO
;
HIRAMATSU MINEO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV MEIJO
UNIV MEIJO
HIRAMATSU MINEO
.
日本专利
:JP2025022336A
,2025-02-14
←
1
2
3
4
5
→