酸化物層のエッチング方法及びエッチング装置[ja]

被引：0

申请号：

JP20150250922

申请日：

2015-12-24

公开(公告)号：

JP6742720B2

公开(公告)日：

2020-08-19

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/3065

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法律状态信息

共 50 条

[1]

エッチング方法及びエッチング装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018020822A1 ,2019-05-09

[2]

シリコン酸化物のエッチング方法及びエッチング装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020054476A1 ,2020-10-22

[3]

シリコン酸化物のエッチング方法及びエッチング装置[ja] [P].

日本专利 :JP7545088B2 ,2024-09-04

[4]

シリコン酸化物のエッチング方法及びエッチング装置[ja] [P].

日本专利 :JP6700571B1 ,2020-05-27

[5]

シリコン酸化物のエッチング方法及びエッチング装置[ja] [P].

日本专利 :JP7352809B2 ,2023-09-29

[6]

酸化物の原子層エッチングの方法[ja] [P].

日本专利 :JP7175237B2 ,2022-11-18

[7]

金属酸化物の原子層エッチング[ja] [P].

日本专利 :JP2024509558A ,2024-03-04

[8]

金属酸化物の原子層エッチング[ja] [P].

日本专利 :JP7330954B2 ,2023-08-22

[9]

金属酸化物の原子層エッチング[ja] [P].

日本专利 :JP2020535657A ,2020-12-03

[10]

エッチング方法およびエッチング装置[ja] [P].

TAKEYA KOJI ;

KANEKI TOSHIKI ;

KAWAGUCHI TSUBASA .

日本专利 :JP2024044428A ,2024-04-02

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