エッチング方法およびエッチング装置[ja]

被引：0

申请号：

JP20220149934

申请日：

2022-09-21

公开(公告)号：

JP2024044428A

公开(公告)日：

2024-04-02

发明(设计)人：

TAKEYA KOJI KANEKI TOSHIKI KAWAGUCHI TSUBASA

申请人：

TOKYO ELECTRON LTD

申请人地址：

IPC主分类号：

C23F1/00

IPC分类号：

C23F1/12 H01L21/3065

代理机构：

代理人：

法律状态：

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法律状态信息

共 50 条

[1]

エッチング剤、エッチング方法およびエッチング剤調製液[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015002272A1 ,2017-02-23

[2]

エッチング方法及びエッチング装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018020822A1 ,2019-05-09

[3]

シリコンエッチング液およびエッチング方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011040484A1 ,2013-02-28

[4]

シリコンエッチング液およびエッチング方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009136558A1 ,2011-09-08

[5]

エッチング方法[ja] [P].

TONARI KAZUHIKO ;

ONO YOHEI ;

SON JINHYEOK ;

PARK JUN-CHANG ;

LEE HYUNHWA ;

BAE JINJU .

日本专利 :JP2025025807A ,2025-02-21

[6]

エッチング方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018225661A1 ,2020-04-09

[7]

エッチング方法、エッチング残渣の除去方法、および記憶媒体[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020066172A1 ,2021-08-30

[8]

酸化物層のエッチング方法及びエッチング装置[ja] [P].

日本专利 :JP6742720B2 ,2020-08-19

[9]

金属酸化物エッチング液組成物およびエッチング方法[ja] [P].

日本专利 :JP6261926B2 ,2018-01-17

[10]

金属酸化物エッチング液組成物およびエッチング方法[ja] [P].

日本专利 :JP6501858B2 ,2019-04-17

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