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エッチング剤、エッチング方法およびエッチング剤調製液[ja]
被引:0
申请号
:
JP20150525275
申请日
:
2014-07-03
公开(公告)号
:
JPWO2015002272A1
公开(公告)日
:
2017-02-23
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23F1/38
IPC分类号
:
C23F1/44
H01L21/308
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
エッチング剤、エッチング方法及びエッチング剤調製液[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009081884A1
,2011-05-06
[2]
エッチング方法およびエッチング装置[ja]
[P].
TAKEYA KOJI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
TAKEYA KOJI
;
KANEKI TOSHIKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
KANEKI TOSHIKI
;
KAWAGUCHI TSUBASA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
KAWAGUCHI TSUBASA
.
日本专利
:JP2024044428A
,2024-04-02
[3]
シリコンエッチング液およびエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011040484A1
,2013-02-28
[4]
シリコンエッチング液およびエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009136558A1
,2011-09-08
[5]
シリコンエッチング液およびエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009044647A1
,2011-02-03
[6]
エッチング方法及びエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018020822A1
,2019-05-09
[7]
多層膜用エッチング液とエッチング濃縮液およびエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018047210A1
,2018-09-06
[8]
多層膜用エッチング液とエッチング濃縮液およびエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6167444B1
,2017-07-26
[9]
多層膜用エッチング液とエッチング濃縮液およびエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015075765A1
,2017-03-16
[10]
多層膜用エッチング液とエッチング濃縮液およびエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019064506A1
,2020-04-09
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