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シリコンエッチング液およびエッチング方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20110534282
申请日
:
2010-09-29
公开(公告)号
:
JPWO2011040484A1
公开(公告)日
:
2013-02-28
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/308
IPC分类号
:
H01L21/306
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
シリコンエッチング液およびエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009136558A1
,2011-09-08
[2]
シリコンエッチング液およびエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009044647A1
,2011-02-03
[3]
エッチング剤、エッチング方法およびエッチング剤調製液[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015002272A1
,2017-02-23
[4]
シリコンエッチング液[ja]
[P].
日本专利
:JP2025157627A
,2025-10-16
[5]
シリコンエッチング液[ja]
[P].
NORO KOSUKE
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKUYAMA CORP
TOKUYAMA CORP
NORO KOSUKE
;
HITOMI TATSUYA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKUYAMA CORP
TOKUYAMA CORP
HITOMI TATSUYA
;
SEIKE YOSHIKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKUYAMA CORP
TOKUYAMA CORP
SEIKE YOSHIKI
;
OKIMURA KOSHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKUYAMA CORP
TOKUYAMA CORP
OKIMURA KOSHIRO
.
日本专利
:JP2024034694A
,2024-03-13
[6]
エッチング方法およびエッチング装置[ja]
[P].
TAKEYA KOJI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
TAKEYA KOJI
;
KANEKI TOSHIKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
KANEKI TOSHIKI
;
KAWAGUCHI TSUBASA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
KAWAGUCHI TSUBASA
.
日本专利
:JP2024044428A
,2024-04-02
[7]
シリコン酸化物のエッチング方法及びエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020054476A1
,2020-10-22
[8]
シリコン酸化物のエッチング方法及びエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7545088B2
,2024-09-04
[9]
シリコン酸化物のエッチング方法及びエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6700571B1
,2020-05-27
[10]
シリコン酸化物のエッチング方法及びエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7352809B2
,2023-09-29
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