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電子源および電子線照射装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20180537899
申请日
:
2016-09-06
公开(公告)号
:
JPWO2018047228A1
公开(公告)日
:
2019-07-04
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01J37/06
IPC分类号
:
G21K5/04
H01J1/30
H01J9/02
H01J37/244
H01J37/28
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
電子源および電子線照射装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6937310B2
,2021-09-22
[2]
電子線照射装置および電子線照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7205802B2
,2023-01-17
[3]
電子線照射装置および電子線照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7246619B2
,2023-03-28
[4]
電子線照射装置および電子線照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6459538B2
,2019-01-30
[5]
電子線照射装置及び電子線照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011102320A1
,2013-06-17
[6]
電子線照射装置および真空容器[ja]
[P].
SHIROHASHI TOMONORI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NHV CORP
NHV CORP
SHIROHASHI TOMONORI
;
BABA TAKASHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NHV CORP
NHV CORP
BABA TAKASHI
.
日本专利
:JP2023172596A
,2023-12-06
[7]
電子線照射装置および真空容器[ja]
[P].
日本专利
:JP7268781B1
,2023-05-08
[8]
電子源及び電子線照射装置並びに電子源の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6983404B2
,2021-12-17
[9]
電子線発生源、電子線照射装置、及びX線照射装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7431649B2
,2024-02-15
[10]
電子線発生源、電子線照射装置、及びX線照射装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7538613B2
,2024-08-22
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