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光照射装置、光照射方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20170118899
申请日
:
2017-06-16
公开(公告)号
:
JP6815942B2
公开(公告)日
:
2021-01-20
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G02B6/44
IPC分类号
:
B05C9/12
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
光照射装置、光照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6984187B2
,2021-12-17
[2]
光照射装置、光照射方法
[P].
信田和彦
论文数:
0
引用数:
0
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0
信田和彦
.
中国专利
:CN110536873A
,2019-12-03
[3]
光照射装置的光照射方法以及光照射装置
[P].
远藤茂
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远藤茂
;
羽田野宪彦
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羽田野宪彦
;
门胁徹二
论文数:
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引用数:
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门胁徹二
.
中国专利
:CN101978308A
,2011-02-16
[4]
光照射装置の光照射方法及び光照射装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010125836A1
,2012-10-25
[5]
光照射装置及光照射方法
[P].
信田和彦
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信田和彦
;
中岛敏博
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中岛敏博
.
中国专利
:CN108367976B
,2018-08-03
[6]
光照射装置以及光照射方法
[P].
丸山健治
论文数:
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机构:
艾美柯技术株式会社
艾美柯技术株式会社
丸山健治
;
末兼大輔
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机构:
艾美柯技术株式会社
艾美柯技术株式会社
末兼大輔
;
稲尾吉浩
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机构:
艾美柯技术株式会社
艾美柯技术株式会社
稲尾吉浩
.
日本专利
:CN118550161A
,2024-08-27
[7]
光照射装置、及光照射方法
[P].
森淳
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森淳
;
井口胜次
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井口胜次
;
青木仁志
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青木仁志
;
森田明理
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森田明理
;
益田秀之
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益田秀之
;
木村诚
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木村诚
.
中国专利
:CN112020379A
,2020-12-01
[8]
光照射装置及光照射方法
[P].
小林贤治
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小林贤治
.
中国专利
:CN102056658B
,2011-05-11
[9]
光照射装置以及光照射方法
[P].
木村淳治
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木村淳治
;
石井一正
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石井一正
.
中国专利
:CN105867029A
,2016-08-17
[10]
光照射装置和光照射方法
[P].
山川明朗
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山川明朗
;
田中健二
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田中健二
;
伊藤辉将
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伊藤辉将
.
中国专利
:CN101783150B
,2010-07-21
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