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放射性同位体の生成のための照射ターゲット[ja]
被引:0
申请号
:
JP20190567506
申请日
:
2018-02-23
公开(公告)号
:
JP2020510847A
公开(公告)日
:
2020-04-09
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G21G4/08
IPC分类号
:
G21G1/02
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
放射性同位体の生成のための照射ターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP7032450B2
,2022-03-08
[2]
放射性同位体の生成のための照射ターゲット及びその分解のための解体器具[ja]
[P].
日本专利
:JP2024523371A
,2024-06-28
[3]
放射性同位体の生成のための照射ターゲット及びその分解のための解体器具[ja]
[P].
日本专利
:JP2024524923A
,2024-07-09
[4]
放射性同位体の生成[ja]
[P].
日本专利
:JP2025540081A
,2025-12-11
[5]
放射性同位体を生成するためのガスターゲットシステム[ja]
[P].
日本专利
:JP7096825B2
,2022-07-06
[6]
放射性同位体を生成するためのガスターゲットシステム[ja]
[P].
日本专利
:JP2020514706A
,2020-05-21
[7]
標的放射性同位体療法のための免疫コンジュゲート[ja]
[P].
日本专利
:JP2024507554A
,2024-02-20
[8]
放射性同位体の製造装置及び放射性同位体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7407097B2
,2023-12-28
[9]
放射性同位体の製造装置及び放射性同位体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7426327B2
,2024-02-01
[10]
放射性同位体の製造方法、放射性同位体製造装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019088113A1
,2020-11-12
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