薄膜形成装置および薄膜形成方法[ja]

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申请号
JP20090505674
申请日
2008-11-19
公开(公告)号
JPWO2009072242A1
公开(公告)日
2011-04-21
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C23C14/56
IPC分类号
C23C14/24
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
薄膜形成装置および薄膜形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2010122742A1 ,2012-10-25
[2]
薄膜形成装置および薄膜形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6218566B2 ,2017-10-25
[3]
薄膜形成装置および薄膜形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7440954B2 ,2024-02-29
[4]
薄膜形成方法および薄膜形成装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6017396B2 ,2016-11-02
[5]
薄膜形成装置および薄膜形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009104382A1 ,2011-06-16
[6]
薄膜形成装置および薄膜形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6376685B2 ,2018-08-22
[7]
薄膜形成装置および薄膜形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2010092758A1 ,2012-08-16
[8]
薄膜形成装置および薄膜形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6506446B2 ,2019-04-24
[9]
薄膜形成方法、および、薄膜形成装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6340332B2 ,2018-06-06
[10]
薄膜形成装置および薄膜形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7120681B2 ,2022-08-17