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液体クロマトグラフィー充填剤[ja]
被引:0
申请号
:
JP20180519605
申请日
:
2017-05-25
公开(公告)号
:
JPWO2017204292A1
公开(公告)日
:
2019-03-22
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B01J20/281
IPC分类号
:
B01D15/34
B01J20/28
B01J20/285
B01J20/34
G01N30/26
G01N30/32
G01N30/60
G01N30/88
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
クロマトグラフィーによるマルチトールラフィネートを用いた液体マルチトール及び液体ポリオールの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2024506736A
,2024-02-14
[2]
ポリペプチド混合物の高速液体クロマトグラフィー分析方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2018515766A
,2018-06-14
[3]
核酸クロマトグラフィー検査具及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014013897A1
,2016-06-30
[4]
アフィニティークロマトグラフィーにおける宿主細胞タンパク質の低減方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2018531895A
,2018-11-01
[5]
アフィニティークロマトグラフィーにおける宿主細胞タンパク質の低減方法[ja]
[P].
PAUL MCDONALD
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机构:
GENENTECH INC
GENENTECH INC
PAUL MCDONALD
;
RICHARD ST JOHN
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机构:
GENENTECH INC
GENENTECH INC
RICHARD ST JOHN
;
MARC WONG
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机构:
GENENTECH INC
GENENTECH INC
MARC WONG
;
ROBERTO FALKENSTEIN
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机构:
GENENTECH INC
GENENTECH INC
ROBERTO FALKENSTEIN
;
WOLFGANG KOEHNLEIN
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机构:
GENENTECH INC
GENENTECH INC
WOLFGANG KOEHNLEIN
;
KLAUS SCHWENDNER
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机构:
GENENTECH INC
GENENTECH INC
KLAUS SCHWENDNER
;
BERNHARD SPENSBERGER
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机构:
GENENTECH INC
GENENTECH INC
BERNHARD SPENSBERGER
;
MICHAEL WIEDMANN
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机构:
GENENTECH INC
GENENTECH INC
MICHAEL WIEDMANN
;
FRANK ZETTL
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机构:
GENENTECH INC
GENENTECH INC
FRANK ZETTL
;
ANNIKA KLEINJANS
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机构:
GENENTECH INC
GENENTECH INC
ANNIKA KLEINJANS
;
CARINA KOPP
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机构:
GENENTECH INC
GENENTECH INC
CARINA KOPP
;
BENJAMIN TRAN
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机构:
GENENTECH INC
GENENTECH INC
BENJAMIN TRAN
;
RYAN ERICKSON
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机构:
GENENTECH INC
GENENTECH INC
RYAN ERICKSON
.
日本专利
:JP2025031829A
,2025-03-07
[6]
液体クロマトグラフィー精製を実施するための方法および装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2017534891A
,2017-11-24
[7]
極紫外線リソグラフィ用位相反転ブランクマスク及びフォトマスク[ja]
[P].
日本专利
:JP7475106B1
,2024-04-26
[8]
極紫外線リソグラフィ用位相反転ブランクマスク及びフォトマスク[ja]
[P].
KIM YONG-TAE
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机构:
S & S TECH CO LTD
S & S TECH CO LTD
KIM YONG-TAE
;
LEE JONG-HWA
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机构:
S & S TECH CO LTD
S & S TECH CO LTD
LEE JONG-HWA
;
YANG CHUL-KYU
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机构:
S & S TECH CO LTD
S & S TECH CO LTD
YANG CHUL-KYU
.
日本专利
:JP2024058523A
,2024-04-25
[9]
極紫外線リソグラフィ用位相反転ブランクマスク及びフォトマスク[ja]
[P].
日本专利
:JP7448614B1
,2024-03-12
[10]
フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法及びフォトマスク[ja]
[P].
MATSUHASHI NAOKI
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
SHINETSU CHEMICAL CO
MATSUHASHI NAOKI
.
日本专利
:JP2023065616A
,2023-05-12
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