COシフト触媒、COシフト反応装置及びガス化ガスの精製方法[ja]

被引:0
申请号
JP20110508173
申请日
2009-04-10
公开(公告)号
JPWO2010116531A1
公开(公告)日
2012-10-18
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
B01J23/88
IPC分类号
B01J37/03 C01B3/16
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[41]
排ガス浄化用触媒及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2010119904A1 ,2012-10-22
[42]
排ガス浄化用触媒及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2008004390A1 ,2009-12-03
[44]
排ガス浄化用触媒および排ガス浄化方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2004045765A1 ,2006-03-16
[45]
[46]
排ガス浄化触媒および排ガス処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2020195600A1 ,2021-12-09
[47]
[48]
[49]
排ガス処理触媒及び排ガス処理方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025174233A ,2025-11-28
[50]
接着フィルム、接着シート、及び接着シートの作製方法[ja] [P]. 
WATASE YUSUKE ;
IWAKURA TETSUO ;
YAMAGUCHI MASAKI .
日本专利 :JP2025032608A ,2025-03-12