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ラジカルの製造方法および酸化反応生成物の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20150248068
申请日
:
2015-12-18
公开(公告)号
:
JP6268152B2
公开(公告)日
:
2018-01-24
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C01B11/02
IPC分类号
:
B01J27/24
B01J31/02
C07C29/03
C07C33/26
C07C51/29
C07C63/06
C07F15/06
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
ラジカル発生触媒、ラジカルの製造方法および酸化反応生成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6268151B2
,2018-01-24
[2]
接触酸化方法、酸化脱水素反応生成物の製造方法、及び酸化反応生成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7207295B2
,2023-01-18
[3]
反応生成物の製造方法[ja]
[P].
TOMITA MITSURU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
YAMANAKA HUTECH CORP
YAMANAKA HUTECH CORP
TOMITA MITSURU
;
KIMURA NAOTO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
YAMANAKA HUTECH CORP
YAMANAKA HUTECH CORP
KIMURA NAOTO
;
HAMADA YOSHITAKA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
YAMANAKA HUTECH CORP
YAMANAKA HUTECH CORP
HAMADA YOSHITAKA
.
日本专利
:JP2024143040A
,2024-10-11
[4]
反応生成物製造装置、反応生成物製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7288687B2
,2023-06-08
[5]
反応生成物製造装置、反応生成物製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019225675A1
,2021-07-08
[6]
反応生成物製造装置及び反応生成物製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7223658B2
,2023-02-16
[7]
反応装置および反応生成物製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7571219B2
,2024-10-22
[8]
反応装置および反応生成物製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7325491B2
,2023-08-14
[9]
ラジカル発生触媒、ラジカルの製造方法、酸化反応生成物の製造方法、薬剤および農畜産用薬剤[ja]
[P].
TAKAMORI KIYOTO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ACENET INC
ACENET INC
TAKAMORI KIYOTO
;
SHIBATA TAKEKATSU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ACENET INC
ACENET INC
SHIBATA TAKEKATSU
.
日本专利
:JP2024050545A
,2024-04-10
[10]
ラジカル発生触媒、ラジカルの製造方法、酸化反応生成物の製造方法、薬剤および農畜産用薬剤[ja]
[P].
日本专利
:JP2022130359A
,2022-09-06
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