共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
半导体清洗设备及半导体清洗方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202410521353.X
申请日：
2024-04-28
公开(公告)号：
CN118431113A
公开(公告)日：
2024-08-02
发明(设计)人：
左国军
范生刚
马文毕
王祥祥
申请人：
常州捷佳创精密机械有限公司
申请人地址：
213000 江苏省常州市新北区黄河西路790号
IPC主分类号：
H01L21/67
IPC分类号：
B08B3/08
B08B13/00
H01L21/02
代理机构：
常州市科佑新创专利代理有限公司 32672
代理人：
印苏华
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
江苏省
常州市
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-08-20 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/67申请日:20240428 |
| 2024-08-02 | 公开 | 公开 |