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氧化物溅射靶及其制造方法以及氧化物薄膜
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202111358250.9
申请日：
2021-11-16
公开(公告)号：
CN114959594B
公开(公告)日：
2024-07-19
发明(设计)人：
宗安慧
奈良淳史
申请人：
捷客斯金属株式会社
申请人地址：
日本东京
IPC主分类号：
C23C14/34
IPC分类号：
C23C14/08
代理机构：
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219
代理人：
胡嵩麟;王海川
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-07-19 | 授权 | 授权 |
| 2024-08-27 | 专利权人的姓名或者名称、国籍和地址的变更 | 专利权人的姓名或者名称、国籍和地址的变更IPC(主分类):C23C 14/34变更事项:专利权人变更前:捷客斯金属株式会社变更后:JX金属株式会社变更事项:国家或地区变更前:日本变更后:日本变更事项:地址变更前:日本东京变更后:日本东京 |