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纳米压印模板及降低纳米压印脱模缺陷的方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202411054034.9
申请日：
2024-08-02
公开(公告)号：
CN118584746B
公开(公告)日：
2024-09-24
发明(设计)人：
李大元
姜英杰
褚浩宇
申请人：
苏州新维度微纳科技有限公司
申请人地址：
215000 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城20幢430室
IPC主分类号：
G03F7/00
IPC分类号：
代理机构：
苏州三英知识产权代理有限公司 32412
代理人：
陆颖
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-09-03 | 公开 | 公开 |
| 2024-09-20 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/00申请日:20240802 |
| 2024-09-24 | 授权 | 授权 |