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基于二维理想旁瓣卷积窗FFT的增强莫尔条纹光刻对准方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202410403647.2
申请日
:
2024-04-03
公开(公告)号
:
CN118226718A
公开(公告)日
:
2024-06-21
发明(设计)人
:
夏豪杰
许非凡
方青林
丁垠冶
陈文浩
申请人
:
合肥工业大学
申请人地址
:
230009 安徽省合肥市包河区屯溪路193号
IPC主分类号
:
G03F9/00
IPC分类号
:
G06F17/14
G06F17/15
代理机构
:
安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101
代理人
:
陆丽莉;何梅生
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
安徽省 合肥市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-07-09
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G03F 9/00申请日:20240403
2024-06-21
公开
公开
共 50 条
[1]
基于二维Hanning自卷积窗频谱泄露抑制的加权的条纹图相位提取方法
[P].
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
夏豪杰
;
许非凡
论文数:
0
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0
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0
机构:
合肥工业大学
合肥工业大学
许非凡
;
论文数:
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机构:
陈心语
;
朱梓旭
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0
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0
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0
机构:
合肥工业大学
合肥工业大学
朱梓旭
;
丁垠冶
论文数:
0
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0
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0
机构:
合肥工业大学
合肥工业大学
丁垠冶
;
陈文浩
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
合肥工业大学
合肥工业大学
陈文浩
.
中国专利
:CN117218087B
,2025-11-11
[2]
一种基于双频莫尔条纹查表的大范围光刻对准方法
[P].
论文数:
引用数:
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机构:
夏豪杰
;
许非凡
论文数:
0
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0
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0
机构:
合肥工业大学
合肥工业大学
许非凡
;
余鑫
论文数:
0
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0
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机构:
合肥工业大学
合肥工业大学
余鑫
;
论文数:
引用数:
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机构:
方青林
;
朱梓旭
论文数:
0
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0
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0
机构:
合肥工业大学
合肥工业大学
朱梓旭
.
中国专利
:CN118732426A
,2024-10-01
[3]
一种基于双频莫尔条纹的光刻对准方法
[P].
论文数:
引用数:
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机构:
王楠
;
丁振洋
论文数:
0
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机构:
西南交通大学
西南交通大学
丁振洋
;
李奕
论文数:
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0
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0
机构:
西南交通大学
西南交通大学
李奕
.
中国专利
:CN117666300A
,2024-03-08
[4]
基于拼接光栅莫尔条纹相位解调的纳米光刻对准方法
[P].
程依光
论文数:
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0
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0
程依光
;
朱江平
论文数:
0
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0
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朱江平
;
胡松
论文数:
0
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0
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胡松
;
赵立新
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0
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0
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0
赵立新
;
陈磊
论文数:
0
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0
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0
陈磊
;
刘俊伯
论文数:
0
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0
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0
刘俊伯
.
中国专利
:CN103838093B
,2014-06-04
[5]
一种基于莫尔条纹的反射式光刻对准装置
[P].
朱江平
论文数:
0
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0
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0
朱江平
;
胡松
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0
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胡松
;
唐燕
论文数:
0
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唐燕
;
刘旗
论文数:
0
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0
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刘旗
;
何渝
论文数:
0
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0
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0
何渝
;
邸成良
论文数:
0
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0
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0
邸成良
.
中国专利
:CN102789137A
,2012-11-21
[6]
一种基于相移莫尔条纹的数字无掩模光刻对准装置
[P].
朱江平
论文数:
0
引用数:
0
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0
朱江平
;
胡松
论文数:
0
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0
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0
胡松
;
唐燕
论文数:
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唐燕
;
陈铭勇
论文数:
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陈铭勇
;
唐路路
论文数:
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0
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0
唐路路
;
何渝
论文数:
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0
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0
何渝
.
中国专利
:CN102566340B
,2012-07-11
[7]
基于2D-Hamming自卷积窗的高精度条纹相位提取方法
[P].
论文数:
引用数:
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机构:
夏豪杰
;
许非凡
论文数:
0
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0
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机构:
合肥工业大学
合肥工业大学
许非凡
;
邹信征
论文数:
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0
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0
机构:
合肥工业大学
合肥工业大学
邹信征
;
论文数:
引用数:
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机构:
方青林
;
朱梓旭
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0
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0
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机构:
合肥工业大学
合肥工业大学
朱梓旭
;
焦明杰
论文数:
0
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0
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机构:
合肥工业大学
合肥工业大学
焦明杰
.
中国专利
:CN119251203A
,2025-01-03
[8]
一种基于级联莫尔效应的光刻对准方法
[P].
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
王楠
;
唐白洋
论文数:
0
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0
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0
机构:
西南交通大学
西南交通大学
唐白洋
;
丁振洋
论文数:
0
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0
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0
机构:
西南交通大学
西南交通大学
丁振洋
.
中国专利
:CN119739014A
,2025-04-01
[9]
一种空间复用的二维莫尔条纹直线光栅尺
[P].
周伶姝
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
周伶姝
周伶姝
周伶姝
.
中国专利
:CN115507753B
,2025-05-02
[10]
一种基于暗场莫尔条纹的对准检测与控制的超分辨光刻装置
[P].
罗先刚
论文数:
0
引用数:
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罗先刚
;
刘明刚
论文数:
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刘明刚
;
蒲明博
论文数:
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蒲明博
;
马晓亮
论文数:
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马晓亮
;
高平
论文数:
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高平
;
李雄
论文数:
0
引用数:
0
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0
李雄
.
中国专利
:CN111352318A
,2020-06-30
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