一种基于莫尔条纹的反射式光刻对准装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201210245688.0
申请日
2012-07-16
公开(公告)号
CN102789137A
公开(公告)日
2012-11-21
发明(设计)人
朱江平 胡松 唐燕 刘旗 何渝 邸成良
申请人
申请人地址
610209 四川省成都市双流350信箱
IPC主分类号
G03F720
IPC分类号
G03F900
代理机构
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
梁爱荣
法律状态
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
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共 50 条
[1]
一种基于相移莫尔条纹的数字无掩模光刻对准装置 [P]. 
朱江平 ;
胡松 ;
唐燕 ;
陈铭勇 ;
唐路路 ;
何渝 .
中国专利 :CN102566340B ,2012-07-11
[2]
用于光刻设备的莫尔条纹的对准装置 [P]. 
杜聚有 ;
王向朝 .
中国专利 :CN105070201A ,2015-11-18
[3]
一种基于双频莫尔条纹的光刻对准方法 [P]. 
王楠 ;
丁振洋 ;
李奕 .
中国专利 :CN117666300A ,2024-03-08
[4]
基于拼接光栅莫尔条纹相位解调的纳米光刻对准方法 [P]. 
程依光 ;
朱江平 ;
胡松 ;
赵立新 ;
陈磊 ;
刘俊伯 .
中国专利 :CN103838093B ,2014-06-04
[5]
一种投影光刻莫尔对准装置及方法 [P]. 
李天 ;
周绍林 ;
陈志坚 ;
李斌 .
中国专利 :CN115561979B ,2025-08-05
[6]
一种投影光刻莫尔对准装置及方法 [P]. 
李天 ;
周绍林 ;
陈志坚 ;
李斌 .
中国专利 :CN115561979A ,2023-01-03
[7]
一种基于双频莫尔条纹查表的大范围光刻对准方法 [P]. 
夏豪杰 ;
许非凡 ;
余鑫 ;
方青林 ;
朱梓旭 .
中国专利 :CN118732426A ,2024-10-01
[8]
一种基于暗场莫尔条纹的对准检测与控制的超分辨光刻装置 [P]. 
罗先刚 ;
刘明刚 ;
蒲明博 ;
马晓亮 ;
高平 ;
李雄 .
中国专利 :CN111352318A ,2020-06-30
[9]
一种基于莫尔条纹放大的高精度对准装置 [P]. 
贺军崴 ;
解金彪 ;
吴家润 ;
徐贵力 ;
程月华 .
中国专利 :CN116893585B ,2024-04-02
[10]
一种基于级联莫尔效应的光刻对准方法 [P]. 
王楠 ;
唐白洋 ;
丁振洋 .
中国专利 :CN119739014A ,2025-04-01