一种电解铜箔用电解液快速溶铜加工装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410452921.5

申请日：

2024-04-16

公开(公告)号：

CN118186512A

公开(公告)日：

2024-06-14

发明(设计)人：

涂毕根张光君欧阳春生

申请人：

江西省中旋新材料有限公司

申请人地址：

343000 江西省吉安市吉州区工业园区管委会四位一体楼综合楼三楼302室A区

IPC主分类号：

C25D1/04

IPC分类号：

代理机构：

长沙准星专利代理事务所(普通合伙) 43241

代理人：

王文彬

法律状态：

公开

国省代码：

河南省郑州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-06-14	公开	公开
2024-07-02	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C25D 1/04申请日:20240416

共 50 条

[1]

一种电解铜箔用电解液生产装置 [P].

毛伟鸿 .

中国专利 :CN214106940U ,2021-09-03

[2]

一种电解铜箔用电解液更换装置 [P].

张永军 ;

林培楷 ;

任国栋 ;

王有仁 ;

付志煜 ;

艾灵儿 .

中国专利 :CN118756264A ,2024-10-11

[3]

一种电解铜箔用电解液更换装置 [P].

明智耀 ;

明荣桂 ;

肖永祥 ;

虞靖 ;

刘平 ;

王朋举 ;

彭伟 .

中国专利 :CN120967460A ,2025-11-18

[4]

电解铜箔制造用铜电解液及电解铜箔的制造方法 [P].

杉元晶子 .

中国专利 :CN1748048A ,2006-03-15

[5]

一种电解铜箔用电解液更换装置 [P].

张健 ;

潘文俊 ;

李永根 ;

钟瑞锋 ;

郭志航 ;

杨淦文 .

中国专利 :CN120649101A ,2025-09-16

[6]

电解铜箔用电解液及其制备铜箔的方法、铜箔 [P].

高晓航 ;

谢文宾 ;

尹卫华 .

中国专利 :CN119710840A ,2025-03-28

[7]

电解铜箔用添加剂、电解铜箔用电解液、铜箔及其制备方法 [P].

唐云志 ;

兰杰 ;

樊小伟 ;

孙桢 ;

谭育慧 .

中国专利 :CN113445081B ,2021-09-28

[8]

一种电解铜箔生产用电解液自吸装置 [P].

温增勇 ;

夏洁 ;

熊雅 ;

黄平娜 ;

谢传毅 ;

郭桂良 .

中国专利 :CN204111877U ,2015-01-21

[9]

铜电解液和从该铜电解液制造出的电解铜箔 [P].

熊谷正志 ;

花房干夫 .

中国专利 :CN1726309A ,2006-01-25

[10]

一种电解铜箔的电解液添加剂、电解液、电解铜箔及其制备方法 [P].

胡浩 ;

宋克兴 ;

代明伟 ;

程浩艳 ;

张彦敏 .

中国专利 :CN113481551B ,2021-10-08

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