用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110023695.5

申请日：

2021-01-08

公开(公告)号：

CN113138544B

公开(公告)日：

2024-09-13

发明(设计)人：

宋贤宇孙成旼韩东一朴泰文李东勋

申请人：

株式会社LG化学

申请人地址：

韩国首尔

IPC主分类号：

G03F7/42

IPC分类号：

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

高世豪;冷永华

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-09-13	授权	授权

共 50 条

[1]

用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法 [P].

宋贤宇 ;

孙成旼 ;

韩东一 ;

朴泰文 ;

李东勋 .

中国专利 :CN113138544A ,2021-07-20

[2]

用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法 [P].

朴泰文 ;

郑大哲 ;

李东勋 ;

李佑然 ;

李贤濬 ;

金周永 .

中国专利 :CN105556392B ,2016-05-04

[3]

用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法 [P].

朴泰文 ;

李东勋 ;

宋贤宇 ;

李佑然 .

中国专利 :CN111989621A ,2020-11-24

[4]

用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法 [P].

朴泰文 ;

李东勋 ;

宋贤宇 ;

李佑然 .

中国专利 :CN115039036A ,2022-09-09

[5]

用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法 [P].

朴泰文 ;

李东勋 ;

宋贤宇 ;

李佑然 .

韩国专利 :CN111989621B ,2024-11-26

[6]

用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法 [P].

朴泰文 ;

李东勋 ;

宋贤宇 ;

李佑然 .

韩国专利 :CN115039036B ,2025-05-30

[7]

光致抗蚀剂剥离剂组合物以及光致抗蚀剂剥离方法 [P].

安江秀国 .

中国专利 :CN102124414A ,2011-07-13

[8]

用于移除光致抗蚀剂的剥离剂组合物及使用其的光致抗蚀剂的剥离方法 [P].

李佑然 ;

郑大哲 ;

李东勋 ;

朴泰文 .

中国专利 :CN104903794B ,2015-09-09

[9]

光致抗蚀剂剥离剂及光致抗蚀剂剥离方法 [P].

邓强 .

中国专利 :CN109254507A ,2019-01-22

[10]

用于光致抗蚀剂的剥离剂组合物及剥离光致抗蚀剂的方法 [P].

朴珉春 ;

闵盛晙 ;

金璟晙 ;

韩熙 ;

高完熙 .

中国专利 :CN101750917A ,2010-06-23

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