一种真空多弧离子镀膜机弧源组件

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN202222496101.5
申请日
2022-09-21
公开(公告)号
CN221421205U
公开(公告)日
2024-07-26
发明(设计)人
黄喜波 鲁明辉 黄喜涛
申请人
陕西莱普特设备有限公司
申请人地址
712000 陕西省咸阳市武功县工业园区创业三路
IPC主分类号
C23C14/32
IPC分类号
代理机构
昆明合众智信知识产权事务所 53113
代理人
陈婵
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种真空多弧离子镀膜机弧源组件 [P]. 
黄喜波 ;
鲁明辉 ;
黄喜涛 .
中国专利 :CN117778965A ,2024-03-29
[2]
真空多弧离子镀膜机 [P]. 
林锡强 ;
陈孝田 .
中国专利 :CN201793722U ,2011-04-13
[3]
弧源及多弧离子镀膜机 [P]. 
王思航 .
中国专利 :CN217479540U ,2022-09-23
[4]
一种真空多弧离子镀膜机 [P]. 
王立峰 ;
李其金 ;
宋小利 .
中国专利 :CN210287501U ,2020-04-10
[5]
多弧离子镀膜机 [P]. 
王君 ;
王思航 ;
闫超颖 ;
汪友林 ;
李昌华 .
中国专利 :CN214572201U ,2021-11-02
[6]
旋转磁控柱状弧源─平面弧源多弧离子镀膜机 [P]. 
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[7]
一种多弧离子镀膜机 [P]. 
周焱文 ;
段云飞 ;
安茶利 ;
聂天伟 ;
周乐 ;
张澳 ;
石教亮 .
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[8]
一种多弧离子镀膜机 [P]. 
汪纪彬 .
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[9]
一种多弧离子镀膜机 [P]. 
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[10]
阴极弧靶装置及真空多弧离子镀膜机 [P]. 
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车少锋 ;
郑卫民 ;
王珍 .
中国专利 :CN207347652U ,2018-05-11