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离心薄膜真空蒸发装置
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202110827447.6
申请日：
2021-07-21
公开(公告)号：
CN113368518B
公开(公告)日：
2024-07-16
发明(设计)人：
严庆东
申请人：
上海大川原德莱因设备工程有限公司
申请人地址：
200135 上海市浦东新区合庆镇青暮路1228号1幢、2幢
IPC主分类号：
B01D1/22
IPC分类号：
B01D1/30
B01D3/10
代理机构：
北京维正专利代理有限公司 11508
代理人：
黄勇
法律状态：
授权
国省代码：
上海市
市辖区
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-07-16 | 授权 | 授权 |