等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110597509.9

申请日：

2018-11-01

公开(公告)号：

CN113451100B

公开(公告)日：

2024-09-24

发明(设计)人：

伊藤智

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

H01J27/16 H01L21/3065 H01L21/67 C23C16/517 C23C16/507 C23C16/455

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-09-24	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体处理装置 [P].

伊藤智 .

中国专利 :CN113451100A ,2021-09-28

[2]

等离子体处理装置 [P].

伊藤智 .

中国专利 :CN109755091A ,2019-05-14

[3]

等离子体处理装置 [P].

大薮淳 ;

輿石公 .

中国专利 :CN100355039C ,2005-07-20

[4]

等离子体处理装置、等离子体处理方法 [P].

石川拓 ;

户部康弘 .

中国专利 :CN101622698B ,2010-01-06

[5]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

佐藤阳介 ;

宇井明生 ;

林久贵 .

中国专利 :CN105280489A ,2016-01-27

[6]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

岸宏树 ;

徐智洙 .

中国专利 :CN106920733B ,2017-07-04

[7]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

李诚泰 ;

土桥和也 .

中国专利 :CN102347231B ,2012-02-08

[8]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 ;

山泽阳平 .

中国专利 :CN102522304A ,2012-06-27

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

东条利洋 ;

藤井祐希 .

中国专利 :CN107275179A ,2017-10-20

[10]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

堀口贵弘 ;

冈信介 .

中国专利 :CN100536634C ,2006-11-15

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