シリコンエッチング液およびその製造方法、基板の処理方法、並びにシリコンデバイスの製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20230139142

申请日：

2023-08-29

公开(公告)号：

JP2024035172A

公开(公告)日：

2024-03-13

发明(设计)人：

HITOMI TATSUYA SEIKE YOSHIKI NORO KOSUKE OKIMURA KOSHIRO

申请人：

TOKUYAMA CORP

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/308

IPC分类号：

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

シリコン微粉末の製造方法、及び窒化シリコン微粉末の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016171018A1 ,2017-05-18

[2]

シリコン微粉末の製造方法、及び窒化シリコン微粉末の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6077193B1 ,2017-02-08

[3]

シチジンジリン酸コリンの結晶及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018066690A1 ,2019-07-25

[4]

シリコンエッチング液およびエッチング方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009136558A1 ,2011-09-08

[5]

シリコンエッチング液およびエッチング方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011040484A1 ,2013-02-28

[6]

シリコンエッチング液およびエッチング方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009044647A1 ,2011-02-03

[7]

コンデンサ素子およびその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013186970A1 ,2016-02-01

[8]

シリコン基板の洗浄方法および太陽電池の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012150669A1 ,2014-07-28

[9]

コンクリート、およびコンクリートの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022114877A ,2022-08-08

[10]

シリコン微細ナノ粒子、並びに食品の製造方法及び添加剤の製造方法[ja] [P].

KOBAYASHI HIKARU ;

KOBAYASHI YUKI .

日本专利 :JP2022101559A ,2022-07-06

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