ビス－（２－ヒドロキシエチル）テレフタレート組成物の製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20240005760

申请日：

2024-01-18

公开(公告)号：

JP2024121785A

公开(公告)日：

2024-09-06

发明(设计)人：

NAMBA TOMOYA MATSUMOTO MAYUMI HARADA KYOSUKE SAKAMOTO JUN

申请人：

TORAY INDUSTRIES

申请人地址：

IPC主分类号：

C07C67/03

IPC分类号：

C07C69/82 C08G63/183

代理机构：

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法律状态信息

共 50 条

[1]

ポリエチレンテレフタレート組成物、その製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014045995A1 ,2016-08-18

[2]

リサイクルエチレングリコールを用いたビス（２－ヒドロキシエチル）テレフタレートの生産方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025528972A ,2025-09-04

[3]

グリコシル化モノ（２−ヒドロキシエチル）テレフタル酸及びグリコシル化ビス（２−ヒドロキシエチル）テレフタル酸[ja] [P].

日本专利 :JP2019512521A ,2019-05-16

[4]

ポリエチレンテレフタレート組成物、その製造方法およびポリエチレンテレフタレートフィルム[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011052290A1 ,2013-03-14

[5]

ポリエチレンテレフタレートの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007117028A1 ,2009-08-27

[6]

ポリエチレンテレフタレートの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007141866A1 ,2009-10-15

[7]

ポリエチレンテレフタレートの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2016501976A ,2016-01-21

[8]

２−ヒドロキシエステル化合物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007018221A1 ,2009-02-19

[9]

４－ヒドロキシ－２－メチレン－ブタナール、４－ヒドロキシ－２－メチル－ブタ－２－エナール及びそれらのエステルの調製方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025526983A ,2025-08-15

[10]

再生ビス（２－ヒドロキシエチル）テレフタラートを含む重合性原料及びその調製方法[ja] [P].

日本专利 :JP2024539816A ,2024-10-31

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