再生ビス（２－ヒドロキシエチル）テレフタラートを含む重合性原料及びその調製方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20240509428

申请日：

2023-09-25

公开(公告)号：

JP2024539816A

公开(公告)日：

2024-10-31

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07C67/03

IPC分类号：

C07B61/00 C07C67/54 C07C67/56 C07C69/82 C08J11/24

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共 50 条

[1]

再生ビス（２－ヒドロキシエチル）テレフタレートを使用するポリエステル樹脂及びそれを含む物品[ja] [P].

日本专利 :JP2025506591A ,2025-03-13

[2]

ビス－（２－ヒドロキシエチル）テレフタレート組成物の製造方法[ja] [P].

NAMBA TOMOYA ;

MATSUMOTO MAYUMI ;

HARADA KYOSUKE ;

SAKAMOTO JUN .

日本专利 :JP2024121785A ,2024-09-06

[3]

ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）の脱重合による液体形態のビス（２－ヒドロキシエチル）テレフタレートの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2024509761A ,2024-03-05

[4]

４－ヒドロキシ－２－メチレン－ブタナール、４－ヒドロキシ－２－メチル－ブタ－２－エナール及びそれらのエステルの調製方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025526983A ,2025-08-15

[5]

４－ヒドロキシ－２－メチレン－ブタナール、４－ヒドロキシ－２－メチル－ブタ－２－エナール及びそれらのエステルを調製する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025528382A ,2025-08-28

[6]

トリヒドロキシエチルルトシドの調製方法[ja] [P].

日本专利 :JP2016519149A ,2016-06-30

[7]

５−（ヒドロキシメチル）フルフラール及び特定のＨＭＦエステルを含む混合物を調製する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2018536656A ,2018-12-13

[8]

グリコシル化モノ（２−ヒドロキシエチル）テレフタル酸及びグリコシル化ビス（２−ヒドロキシエチル）テレフタル酸[ja] [P].

日本专利 :JP2019512521A ,2019-05-16

[9]

リサイクルエチレングリコールを用いたビス（２－ヒドロキシエチル）テレフタレートの生産方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025528972A ,2025-09-04

[10]

２，２’−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−１，１’−ビナフタレン化合物及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6615398B1 ,2019-12-04

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