学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审

４－ヒドロキシ－２－メチレン－ブタナール、４－ヒドロキシ－２－メチル－ブタ－２－エナール及びそれらのエステルを調製する方法[ja]

被引：0
申请号：
JP20250511464
申请日：
2023-08-23
公开(公告)号：
JP2025528382A
公开(公告)日：
2025-08-28
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
C07C67/29
IPC分类号：
B01J31/02 B01J31/22 B01J35/39 C07B61/00 C07C69/145 C07C409/20 C07C409/22
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
４－ヒドロキシ－２－メチレン－ブタナール、４－ヒドロキシ－２－メチル－ブタ－２－エナール及びそれらのエステルの調製方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025526983A ,2025-08-15
[2]
２－メチル－Ｎ－（２’－メチルブチル）ブタナミドの製造方法[ja] [P]. 
KANAO TAKESHI ;
NAGAE YUSUKE ;
TSUKAGUCHI SHOGO ;
KUTSUWADA YASUHIKO ;
HOJO TATSUYA ;
WATANABE TAKESHI .
日本专利 :JP2024111191A ,2024-08-16
[3]
エナンチオマー濃縮形態の２－［２－（２－クロロチアゾール－５－イル）－２－ヒドロキシ－エチル］スルファニル－６－ヒドロキシ－３－メチル－５－フェニル－ピリミジン－４－オンを調製する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2024504338A ,2024-01-31
[4]
２−エテニルオキシメチル−２−ヒドロキシメチルアダマンタン及び２，２−ビス（エテニルオキシメチル）アダマンタン並びにその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013157388A1 ,2015-12-21
[5]
２－［２－（２－クロロチアゾール－５－イル）－２－オキソ－エチル］スルファニル－６－ヒドロキシ－３－メチル－５－フェニル－ピリミジン－４－オンを調製するための方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2024505177A ,2024-02-05
[6]
グリコシル化モノ（２−ヒドロキシエチル）テレフタル酸及びグリコシル化ビス（２−ヒドロキシエチル）テレフタル酸[ja] [P]. 
日本专利 :JP2019512521A ,2019-05-16
[7]
４，５－ジヒドロキシ－２－（４－メチルベンジル）イソフタロニトリルの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022506697A ,2022-01-17
[8]
３，４－ジヒドロキシ－Ｎ－（１’－ベンジル－２’－ヒドロキシエチル）－２－メチルピリジニウムクロリド、その製造方法及び使用[ja] [P]. 
日本专利 :JP2023507025A ,2023-02-20
[9]
ビス－（２－ヒドロキシエチル）テレフタレート組成物の製造方法[ja] [P]. 
NAMBA TOMOYA ;
MATSUMOTO MAYUMI ;
HARADA KYOSUKE ;
SAKAMOTO JUN .
日本专利 :JP2024121785A ,2024-09-06
[10]
５－［［４－［２－［５－（１－ヒドロキシエチル）－２－ピリジニル］エトキシ］フェニル］メチル］－２，４－チアゾリジンジオンおよびその塩を調製するためのプロセス[ja] [P]. 
ANA MARIA GARCIA COLLAZO ;
WOLTER TEN HOEVE ;
JOHANNES NICOLAAS KOEK ;
JOHANNES B M REWINKEL ;
SANDER DE WILDE .
日本专利 :JP2023052918A ,2023-04-12
12345