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光学積層体およびその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20220122005
申请日
:
2022-07-29
公开(公告)号
:
JP2024018584A
公开(公告)日
:
2024-02-08
发明(设计)人
:
ITO YUTAKA
HATANAKA NOBUYUKI
申请人
:
SUMITOMO CHEMICAL CO LTD
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G02B5/30
IPC分类号
:
B05D7/00
B05D7/24
B32B7/023
B32B27/18
B32B27/30
C08J7/04
G09F9/00
H05B33/02
H05B33/14
H10K50/10
H10K59/10
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
光学積層体およびその製造方法[ja]
[P].
ITO YUTAKA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO
SUMITOMO CHEMICAL CO
ITO YUTAKA
;
HATANAKA NOBUYUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO
SUMITOMO CHEMICAL CO
HATANAKA NOBUYUKI
.
日本专利
:JP2024018583A
,2024-02-08
[2]
積層体およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011108609A1
,2013-06-27
[3]
積層体およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011111586A1
,2013-06-27
[4]
積層体、およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018116800A1
,2019-10-24
[5]
積層体およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005090067A1
,2008-05-08
[6]
積層体およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011118383A1
,2013-07-04
[7]
積層体およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019044481A1
,2020-10-22
[8]
積層体およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005000579A1
,2006-08-03
[9]
円偏光板およびその製造方法、光学積層体[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014054769A1
,2016-08-25
[10]
光学積層体及びその製造方法[ja]
[P].
SOFUE SHOJI
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO
SUMITOMO CHEMICAL CO
SOFUE SHOJI
;
MATSUNO KENJI
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO
SUMITOMO CHEMICAL CO
MATSUNO KENJI
;
SAITO SOSUKE
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO
SUMITOMO CHEMICAL CO
SAITO SOSUKE
;
KAWAKAMI TAKESHI
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO
SUMITOMO CHEMICAL CO
KAWAKAMI TAKESHI
.
日本专利
:JP2024146770A
,2024-10-15
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