半導体装置、及び、半導体装置の製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20220148476
申请日
2022-09-16
公开(公告)号
JP2024043345A
公开(公告)日
2024-03-29
发明(设计)人
OMURA YUYA
申请人
KIOXIA CORP
申请人地址
IPC主分类号
H10B41/42
IPC分类号
H01L21/336 H10B41/46 H10B41/49
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
KAWAI TORU ;
SHIRAISHI NOBUHITO .
日本专利 :JP2025124132A ,2025-08-26
[2]
半導体装置、及び、半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015049773A1 ,2017-03-09
[3]
半導体装置、及び半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5658425B1 ,2015-01-28
[4]
半導体装置、及び半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015045054A1 ,2017-03-02
[5]
半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2020255773A1 ,2021-10-21
[6]
半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025179592A ,2025-12-10
[7]
半導体装置、及び、半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5658426B1 ,2015-01-28
[8]
半導体装置および半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2006059381A1 ,2008-08-07
[9]
半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017047544A1 ,2017-12-21
[10]
半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2004114381A1 ,2006-08-03