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半導体装置、及び、半導体装置の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20220148476
申请日
:
2022-09-16
公开(公告)号
:
JP2024043345A
公开(公告)日
:
2024-03-29
发明(设计)人
:
OMURA YUYA
申请人
:
KIOXIA CORP
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H10B41/42
IPC分类号
:
H01L21/336
H10B41/46
H10B41/49
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja]
[P].
KAWAI TORU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
RENESAS ELECTRONICS CORP
RENESAS ELECTRONICS CORP
KAWAI TORU
;
SHIRAISHI NOBUHITO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
RENESAS ELECTRONICS CORP
RENESAS ELECTRONICS CORP
SHIRAISHI NOBUHITO
.
日本专利
:JP2025124132A
,2025-08-26
[2]
半導体装置、及び、半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015049773A1
,2017-03-09
[3]
半導体装置、及び半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5658425B1
,2015-01-28
[4]
半導体装置、及び半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015045054A1
,2017-03-02
[5]
半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020255773A1
,2021-10-21
[6]
半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025179592A
,2025-12-10
[7]
半導体装置、及び、半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5658426B1
,2015-01-28
[8]
半導体装置および半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006059381A1
,2008-08-07
[9]
半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017047544A1
,2017-12-21
[10]
半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2004114381A1
,2006-08-03
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