炭素膜構造体及びその製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20230015503
申请日
2023-02-03
公开(公告)号
JP2024110736A
公开(公告)日
2024-08-16
发明(设计)人
AKASAKA DAIKI HARADA MASARU AONO YUKO
申请人
TOKYO INST TECH
申请人地址
IPC主分类号
C01B32/05
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
硬化膜製造装置及び硬化膜の製造方法[ja] [P]. 
HASHIMOTO NAOKI ;
OMOTO ATSUSHI ;
TAKAHASHI NORIAKI .
日本专利 :JP2024117206A ,2024-08-29
[2]
半導体製造装置及び製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2007043206A1 ,2009-04-16
[5]
立体物の製造装置及び立体物の製造方法[ja] [P]. 
YAMAGUCHI NAO ;
YOSHII KOHEI .
日本专利 :JP2025019446A ,2025-02-07
[6]
半導体装置の製造装置および製造方法[ja] [P]. 
SEYAMA KOHEI ;
NOMURA KATSUTOSHI .
日本专利 :JP2024036171A ,2024-03-15
[7]
[8]
半導体装置の製造方法、半導体製造装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2014049696A1 ,2016-08-22
[9]
半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2011074075A1 ,2013-04-25
[10]
照射装置及び造形物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7192820B2 ,2022-12-20