ケイ素と酸素を含有する薄膜[ja]

被引：0

申请号：

JP20230509523

申请日：

2022-11-11

公开(公告)号：

JP7341584B1

公开(公告)日：

2023-09-11

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C23C14/08

IPC分类号：

B32B9/00 B32B27/30 C23C14/34

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共 50 条

[1]

ケイ素及び窒素を含有する膜を製造する方法[ja] [P].

HAIRPIN CHANDRA ;

LEI XINJIAN ;

KIM MOO-SUNG .

日本专利 :JP2022008961A ,2022-01-14

[2]

ケイ素含有固体を粉砕する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020500807A ,2020-01-16

[3]

四塩化ケイ素を水素化する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020500806A ,2020-01-16

[4]

ケイ素含有薄膜の生成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020502360A ,2020-01-23

[5]

有機ケイ素化合物を含有する組成物[ja] [P].

日本专利 :JP7115621B1 ,2022-08-09

[6]

ケイ素含有膜を形成するためのケイ素前駆体化合物及び方法[ja] [P].

日本专利 :JP7683037B2 ,2025-05-26

[7]

ケイ素含有膜を形成するためのケイ素前駆体化合物及び方法[ja] [P].

日本专利 :JP2024518754A ,2024-05-02

[8]

ケイ素前駆体化合物及びケイ素含有膜を形成するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023531513A ,2023-07-24

[9]

重水素を含有する化合物[ja] [P].

日本专利 :JP2022512736A ,2022-02-07

[10]

フッ素含有ケイ素化合物[ja] [P].

日本专利 :JP6923300B2 ,2021-08-18

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