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半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20230033003
申请日
:
2023-03-03
公开(公告)号
:
JP2024124977A
公开(公告)日
:
2024-09-13
发明(设计)人
:
NAGAI MASATSUGU
SATO SHINGO
申请人
:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA ELECTRONIC DEVICES & STORAGE CORP
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L29/78
IPC分类号
:
H01L21/336
H01L29/739
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006009025A1
,2008-05-01
[2]
半導体装置の製造方法、半導体装置、半導体製造装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013153777A1
,2015-12-17
[3]
半導体装置の製造方法及び半導体装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5670603B1
,2015-02-18
[4]
半導体装置の製造方法、及び、半導体装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5731073B1
,2015-06-10
[5]
半導体製造装置及び半導体装置の製造方法[ja]
[P].
ARAKAWA SHOHEI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
KIOXIA CORP
KIOXIA CORP
ARAKAWA SHOHEI
;
OSADA YUTA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
KIOXIA CORP
KIOXIA CORP
OSADA YUTA
.
日本专利
:JP2024044633A
,2024-04-02
[6]
半導体装置の製造方法、及び、半導体装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5838529B1
,2016-01-06
[7]
半導体装置の製造方法、及び、半導体装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015132913A1
,2017-03-30
[8]
半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025171346A
,2025-11-20
[9]
半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019175921A1
,2021-03-18
[10]
半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025171345A
,2025-11-20
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