半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20240076562
申请日
2024-05-09
公开(公告)号
JP2025171346A
公开(公告)日
2025-11-20
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H10D10/80
IPC分类号
H10D62/824
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
半導体装置の製造方法及び半導体装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP5670603B1 ,2015-02-18
[2]
半導体装置の製造方法、及び、半導体装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP5731073B1 ,2015-06-10
[3]
半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2006009025A1 ,2008-05-01
[4]
半導体装置の製造方法、及び、半導体装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP5838529B1 ,2016-01-06
[5]
半導体装置の製造方法、及び、半導体装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015132913A1 ,2017-03-30
[6]
半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019175921A1 ,2021-03-18
[7]
半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025171345A ,2025-11-20
[8]
半導体装置の製造方法、及び、半導体装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2014203304A1 ,2017-02-23
[9]
半導体装置の製造方法及び半導体装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2014174672A1 ,2017-02-23
[10]
半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
NAGAI MASATSUGU ;
SATO SHINGO .
日本专利 :JP2024124977A ,2024-09-13