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銅粒子の製造方法、導電性ペースト及び基板[ja]
被引:0
申请号
:
JP20220160534
申请日
:
2022-10-04
公开(公告)号
:
JP2024053981A
公开(公告)日
:
2024-04-16
发明(设计)人
:
ISHIDA REIJI
SUZUKI CHISATO
申请人
:
FURUKAWA CO LTD
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B22F9/24
IPC分类号
:
B22F1/00
B22F1/05
B22F7/04
B22F9/00
C08K3/08
C08L101/00
H01B1/22
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
銅粒子の製造方法、導電性ペースト及び基板[ja]
[P].
ISHIDA REIJI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
FURUKAWA CO LTD
FURUKAWA CO LTD
ISHIDA REIJI
;
SUZUKI CHISATO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
FURUKAWA CO LTD
FURUKAWA CO LTD
SUZUKI CHISATO
.
日本专利
:JP2024053980A
,2024-04-16
[2]
銅粒子分散ペースト、及び導電性基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6277751B2
,2018-02-14
[3]
銅粒子の製造方法、銅粒子及び銅ペースト[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016140351A1
,2017-12-07
[4]
導電性ペーストの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017094166A1
,2018-09-20
[5]
銀粒子の合成方法、銀粒子、導電性ペーストの製造方法、および導電性ペースト[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015194536A1
,2017-05-18
[6]
導電性金属ペースト及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2002035554A1
,2004-03-04
[7]
銅ナノ粒子分散体、及び導電性基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5994811B2
,2016-09-21
[8]
導電性銅ペースト、導電性銅ペースト硬化膜および半導体装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016140185A1
,2017-12-14
[9]
金属微粒子分散体、導電性基板の製造方法及び導電性基板[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011040189A1
,2013-02-28
[10]
導電ペースト及び導電パターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5673890B1
,2015-02-18
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