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光学装置のためのインライン計測システム、装置、及び方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20230522939
申请日
:
2021-10-04
公开(公告)号
:
JP2023550684A
公开(公告)日
:
2023-12-05
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G01M11/02
IPC分类号
:
G01M11/00
H04N23/90
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
光学装置のためのインライン計測システム、装置、及び方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7709523B2
,2025-07-16
[2]
光学装置のためのインライン計測システム、装置、及び方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023546873A
,2023-11-08
[3]
光学装置のためのインライン計測システム、装置、及び方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7709522B2
,2025-07-16
[4]
光学装置のためのシースルー計測システム、装置、及び方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023546872A
,2023-11-08
[5]
光学装置のためのシースルー計測システム、装置、及び方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7621474B2
,2025-01-24
[6]
光学装置のためのシースルー計測システム、装置、及び方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023548779A
,2023-11-21
[7]
光学装置のためのシースルー計測システム、装置、及び方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7570507B2
,2024-10-21
[8]
光学応用のための装置、分光計システム、及び、光学応用のための装置を製造するための方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2020509432A
,2020-03-26
[9]
光学装置製造のためのイオンビーム源[ja]
[P].
日本专利
:JP2022515347A
,2022-02-18
[10]
光学装置製造のためのイオンビーム源[ja]
[P].
日本专利
:JP7447118B2
,2024-03-11
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