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光学装置製造のためのイオンビーム源[ja]
被引：0
申请号：
JP20210533442
申请日：
2019-12-17
公开(公告)号：
JP7447118B2
公开(公告)日：
2024-03-11
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
H01J37/305
IPC分类号：
H01J37/08
H01J37/16
H01J37/18
H01L21/302
H05H1/46
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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