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イオンビーム源を使用した光学装置の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210533444
申请日
:
2019-12-17
公开(公告)号
:
JP7555340B2
公开(公告)日
:
2024-09-24
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/302
IPC分类号
:
H01J37/08
H01L21/3065
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
イオンビーム源を使用した光学装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022515348A
,2022-02-18
[2]
光学装置製造のためのイオンビーム源[ja]
[P].
日本专利
:JP2022515347A
,2022-02-18
[3]
光学装置製造のためのイオンビーム源[ja]
[P].
日本专利
:JP7447118B2
,2024-03-11
[4]
電子ビーム装置を使用した光学装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022512491A
,2022-02-04
[5]
電子ビーム装置を使用した光学装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7410951B2
,2024-01-10
[6]
光学装置製造のための電子ビーム装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2022512490A
,2022-02-04
[7]
光学装置製造のための電子ビーム装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7447119B2
,2024-03-11
[8]
レーザービームを用いた加工のための光学装置、レーザービームを用いた加工方法、及びガラス物品の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6603829B1
,2019-11-06
[9]
レーザービームを用いた加工のための光学装置、レーザービームを用いた加工方法、及びガラス物品の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019193918A1
,2020-04-30
[10]
ズームレンズ、光学装置、ズームレンズの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5720378B2
,2015-05-20
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