低誘電正接シリカゾル及び低誘電正接シリカゾルの製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20230534721

申请日：

2023-01-25

公开(公告)号：

JP7339613B1

公开(公告)日：

2023-09-06

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C01B33/18

IPC分类号：

C01B33/145 C08K3/36 C08L101/00

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共 50 条

[1]

低誘電正接シリカ粒子及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025156151A ,2025-10-14

[2]

高分子被覆した低誘電正接シリカゾル及びその製造方法[ja] [P].

EBARA KAZUYA ;

NAKADA TAKESHI ;

TADOKORO SHINSUKE .

日本专利 :JP2024008588A ,2024-01-19

[3]

シリカゾルの製造方法およびシリカゾル[ja] [P].

日本专利 :JP2025153117A ,2025-10-10

[4]

シリカ粒子及びその製造方法並びにシリカゾル[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015087965A1 ,2017-03-16

[5]

シリカコロイド粒子及びその製造方法、並びにその有機溶媒分散シリカゾル、重合性化合物分散シリカゾル及びジカルボン酸無水物分散シリカゾル[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009101974A1 ,2011-06-09

[6]

シリカ系微粒子ゾル及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015119034A1 ,2017-03-23

[7]

シリカアルミナ複合ゾル及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008056668A1 ,2010-02-25

[8]

シリカゾル及びシリカ含有エポキシ樹脂組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014188934A1 ,2017-02-23

[9]

細長い粒子形状を有するシリカゾルの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019163993A1 ,2021-02-18

[10]

細長い粒子形状を有するシリカゾルの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019163992A1 ,2021-03-04

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